近日,在GTC 2025大会的访谈中,NVIDIA首席执行官黄仁勋表示,基于环绕栅极(GAA)晶体管的下一代制程技术,将为新一代GPU带来约20%的性能提升。若不出意外,黄仁勋所指的新一代GPU应为预计在2028年推出的Feynman架构产品。
报道显示,黄仁勋在问答环节似乎有意淡化制程节点变化的重要性。他强调,随着摩尔定律的放缓,未来全新的制程技术在芯片密度、功率和能效方面的改进较为有限,预计只能带来20%左右的性能提升。黄仁勋指出,尽管领先工艺技术带来的改进值得肯定,但已不再具有变革性意义。他表示“我们会接受它”,同时认为其他因素在当下更为关键。随着人工智能系统的不断扩展,管理大量GPU的效率变得比单个GPU的原始性能更为重要。
从过往情况来看,NVIDIA通常不会率先采用台积电最新的工艺制程,而是倾向于选择次新的成熟制程技术。例如,目前NVIDIA使用台积电的4nm制程技术生产面向消费级和数据中心的Ada Lovelace、Hopper和Blackwell等架构的GPU,而台积电的4nm节点制程实际上是5nm节点制程的改良版本。据悉,NVIDIA的下一代GPU架构RuBin计划采用台积电3nm节点制程,可能是N3P或者为NVIDIA定制的版本。
由此推断,NVIDIA首款采用GAA制程技术的产品大概率是2028年推出的Feynman架构GPU。不过,黄仁勋并未提及会采用哪家厂商的GAA制程技术,所以理论上台积电的N2制程技术、三星的类似技术,甚至是Intel 18A都有被选用的可能。(Suky)
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