首尔经济日报昨日(8 月 15 日)报道,三星将于 2024 年第 4 季度至 2025 年第 1 季度期间,安装首台来自 ASML 的 High-NA EUV 光刻机,并预估 2025 年年中投入使用。
报道称三星将在其华城园区内安装首台 ASML Twinscan EXE:5000 High-NA 光刻机,主要用于研发目的,开发用于逻辑和 DRAM 的下一代制造技术。
三星计划围绕高 High-NA EUV 技术开发一个强大的生态系统:除了收购高 NA EUV 光刻设备外,三星还与日本 Lasertec 公司合作开发专门用于 High-NA 光掩膜的检测设备。
援引 DigiTimes 报道,三星已经购买了 Lasertec 的 High-NA EUV 掩膜检测工具 Actis A300。
三星电子半导体研究所的 Min Cheol-ki 博士在 2024 年光刻与图案化研讨会上表示:“与传统的 [EUV 专用工具] 相比,使用 [High-NA EUV 专用工具] 检测半导体掩膜可将对比度提高 30% 以上”。
报道还称三星还与光刻胶制造商 JSR 和蚀刻机制造商东京电子公司合作,准备在 2027 年之前将高纳 EUV 工具投入商业应用。
三星还与新思科技(Synopsys)合作,在光掩膜上从传统的电路设计转向曲线图案。这一转变有望提高电路压印在晶片上的精度,这对进一步完善工艺技术至关重要。
文章内容仅供阅读,不构成投资建议,请谨慎对待。投资者据此操作,风险自担。
近日,德国柏林国际电子消费品展览会(IFA2024)隆重举办。凭借在核心技术、产品设计及应用方面的创新变革,全球领先的智能终端企业TCL实业成功斩获两项“IFA全球产品设计创新大奖”金奖,有力证明了其在全球市场的强大影响力。
近日,中国家电及消费电子博览会(AWE 2024)隆重开幕。全球领先的智能终端企业TCL实业携多款创新技术和新品亮相,以敢为精神勇闯技术无人区,斩获四项AWE 2024艾普兰大奖。
“以前都要去窗口办,一套流程下来都要半个月了,现在方便多了!”打开“重庆公积金”微信小程序,按照提示流程提交相关材料,仅几秒钟,重庆市民曾某的账户就打进了21600元。
由世界人工智能大会组委会、上海市经信委、徐汇区政府、临港新片区管委会共同指导,由上海市人工智能行业协会联合上海人工智能实验室、上海临港经济发展(集团)有限公司、开放原子开源基金会主办的“2024全球开发者先锋大会”,将于2024年3月23日至24日举办。