中国科学院研究人员近日成功开发出一种突破性固态深紫外(DUV)激光,可发射193纳米的相干光,该波长目前广泛应用于半导体光刻领域。深紫外相干光,尤其是193纳米波长,已成为半导体制造中不可或缺的技术。
研究团队提出了一种紧凑型固态纳秒脉冲激光系统,通过复杂的谐波产生和光学参量放大技术,最终在6千赫兹重复频率下生成平均功率70毫瓦的193纳米激光。
值得一提的是,该实验首次实现了固态激光产生193纳米涡旋光束,这一成果对种子混合ArF准分子激光器及晶圆加工、缺陷检测等应用具有重要价值。
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