尼康(Nikon)将转变半导体光刻机业务的战略,采用不违反对华出口管制的成熟技术的设备,于2024年时投放新产品,通过寻求逆势开拓中国市场,以实现卷土重来。
尼康和佳能曾在1990年代之前主导市场,但在最尖端的极紫外(EUV)设备的开发竞争中败给了荷兰阿斯麦(ASML)。极紫外光刻机在2010年后半期实用化,全世界只有ASML能够生产。
调查显示,从2022年的光刻机销量来看,排在首位的ASML的全球市场份额为62%,排在第2位的佳能为31%,尼康排在第3位,仅为7%。(全球企业动态)
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